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반도체 노광 공정 핵심재료인 포토마스크 원재료인 블랭크 마스크 제조업체. (EUV 노광장비에서 사용되는 포토마스크 오염을 방지해 EUV 노광장비 생산효율을 높일 수 있는 EUV용 펠리클 개발)

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